今天（10月17日）上午，国内首个高端光刻技术研讨会——为期两天的第三届国际先进光刻技术研讨会在南京召开。来自中国、美国、德国、日本等世界各地众多名企、厂商、科研机构、高校的共400多名技术专家和研究人员参会。

　　国际先进光刻技术研讨会已连续举办三届，本届大会延续了往届大会的高规格和高水准，打造成为共享国内外先进光刻技术研发和成果、为我国集成电路制造研发与应用开展合作与交流的高端峰会议。

　　会上，来自Intel、IBM、ASML、Mentor等公司的特邀嘉宾分别就拟定的主题做了特邀报告，深入分析了光刻领域先进节点最新的技术手段和解决方案，内容丰富，包含7nm及以下先进节点的计算光刻技术、光刻设备、材料等。

　　近年来，中国集成电路蓬勃发展，基于这样的形式，国际先进光刻技术研讨会应运而生，为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。

　　作为国内首个高端光刻技术研讨会，其发言者均为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。

　　目前，南京已明确了集成电路产业的总体布局：即 “一核、两翼、三基地”。其中“一核”即指以江北新区为核心，重点打造具有国际影响力的集成电路产业基地。而浦口区是这“一核”的重要载体，近两年集成电路产业呈现出了惊人的发展速度，已快速地实现了集成电路全产业链的有效集中。

　　（来源：江苏广电融媒体新闻中心/许宸）